Новый завод будет построен в префектуре Точиги и начнет работать весной 2025 года. Инвестиции составят более 50 миллиардов иен (345 миллионов долларов США), включая затраты на строительство и установку производственного оборудования. Компания намерена удвоить свои текущие мощности.
Новый завод будет построен на свободном участке площадью около 70 000 кв. м на территории существующего завода. Это будет первый новый завод по производству литографического оборудования, построенный компанией Canon за 21 год. Строительство начнется в 2023 году.
Ожидается, что в 2022 году продажи оборудования для литографии полупроводников вырастут на 29% в годовом исчислении и достигнут 180 единиц, что в четыре раза больше, чем 10 лет назад. Новый завод поможет удовлетворить этот растущий спрос.
Canon контролирует 30% мирового рынка оборудования для литографии в натуральном выражении, уступая ASML, на долю которой приходится 60%.
Компания также следующего поколения под названием " ". Она позволяет травить новейшие тонкие микросхемы по более низкой цене, чем существующее оборудование для литографии. Процесс упрощается с помощью метода, который вытравливает схемы как при штамповке, что снижает производственные затраты. Компания Canon возглавляет разработку новой технологии, а японские компании Kioxia и Dai Nippon Printing принимают в ней участие.
В настоящее время для формирования схем на нанометровом уровне, равном одной миллиардной части метра, необходимо оборудование, использующее технологию, известную как экстремальный ультрафиолет (EUV). Европейский поставщик оборудования для производства микросхем ASML является единственным источником этой технологии.
Но это оборудование дорогостоящее, стоимостью около 20 миллиардов иен за единицу, и потребляет много энергии. Если наноимпринтную литографию удастся применить на практике, Canon ожидает, что производственные затраты на процесс литографии снизятся до 40%, а энергопотребление - до 90% по сравнению с EUV. Компания стремится расширить продажи наноимпринтной литографии, чтобы сломать доминирование ASML на рынке.
Новый завод будет построен на свободном участке площадью около 70 000 кв. м на территории существующего завода. Это будет первый новый завод по производству литографического оборудования, построенный компанией Canon за 21 год. Строительство начнется в 2023 году.
Ожидается, что в 2022 году продажи оборудования для литографии полупроводников вырастут на 29% в годовом исчислении и достигнут 180 единиц, что в четыре раза больше, чем 10 лет назад. Новый завод поможет удовлетворить этот растущий спрос.
Canon контролирует 30% мирового рынка оборудования для литографии в натуральном выражении, уступая ASML, на долю которой приходится 60%.
Компания также следующего поколения под названием " ". Она позволяет травить новейшие тонкие микросхемы по более низкой цене, чем существующее оборудование для литографии. Процесс упрощается с помощью метода, который вытравливает схемы как при штамповке, что снижает производственные затраты. Компания Canon возглавляет разработку новой технологии, а японские компании Kioxia и Dai Nippon Printing принимают в ней участие.
В настоящее время для формирования схем на нанометровом уровне, равном одной миллиардной части метра, необходимо оборудование, использующее технологию, известную как экстремальный ультрафиолет (EUV). Европейский поставщик оборудования для производства микросхем ASML является единственным источником этой технологии.
Но это оборудование дорогостоящее, стоимостью около 20 миллиардов иен за единицу, и потребляет много энергии. Если наноимпринтную литографию удастся применить на практике, Canon ожидает, что производственные затраты на процесс литографии снизятся до 40%, а энергопотребление - до 90% по сравнению с EUV. Компания стремится расширить продажи наноимпринтной литографии, чтобы сломать доминирование ASML на рынке.
